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Chapter032 光刻机：至极变态的条件（第2页）

利用金属吸收反射的原理将光波变得更短，但是这种光的波长是短了，强度又不够，怎么办？

那就打击2次!

动次打次，动次打次~

光有了，就相当雕刻于有了刀。

光刻机还需要反射镜。

（反射镜原理不用讲吧，八年级物理，不会的都是九漏鱼~自己自首去）

这种反射镜只反射13.5纳米的光，镜子直径30cm，镜面要求非常平整。

平整到什么变态程度呢？

如果把这面镜子放大到地球那么大，这上面只允长一根头发那么大的误差，大约0.05纳米左右的凸起厚度。

（像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米（1微米=1000纳米），我有个朋友她一根头发顶我五根。（?ε?｀）……羡慕死了……）

这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面！一台光刻机上有这样的镜子最少20个！！

┴┴︵╰（‵□′）╯︵┴┴、

看到这里，有没有被逼疯？

这是目前宇宙中最光滑的人造结构了。

EUV的光通过反射、拐弯、过滤杂光，调整形状之后，每次又都会损伤30%的光强，最后到达硅片上的就只剩下2%。

所以得出结论，造光刻机好难。

芯片制造的模板叫做光掩模，这个就是遮光膜和高纯度石英玻璃基板合成光掩模底板，然后再经过绘图显影、蚀刻、去除光致抗蚀剂清洗后制造而成的。

（手搓芯这下可算会了，这不就是用光刻机通过光掩模在硅片上划拉两下的事吗？有手就行！当初看过一本小说中，主人公熬夜一个月愣是把0.2纳米光刻机给造出来了！我只想说：我的天哪！=????=????（●???●|||））

整个光刻机光刻时候有些像我们玩的光线游戏，通过调整镜子角度反射光线达到自己的目的。

芯片就是通过光刻机一次次调整镜子将光传送到指定区域进行光刻。

整个光刻机和硅片的前生后世都已经差不多说完，这里面其实单拿出来看好像也不难。

但你会发现所有的这些都有一个精准度，纯度。

所有材料要求高纯度，不管是气体液体全部都需要达到最大的那只阈值。

而这个纯度恰好就是摆在所有人面前的难关。

布一楠把所有工艺写了出来，难点标注。

可即便这样她还是不放心。

外面出来敲门声，听到动静布一楠应了一声后凌澈又推着小餐车走了进来。

“指挥官，吃饭了。”